기본 원리
시료를 고온 열분해로에 투입하면 시료 중의 황은 정량적으로 이산화황(SO2)으로 전환되고, 질소화합물은 산화열분해를 거쳐 산화질소(NO)로 정량적으로 전환됩니다. 반응과정은 식(1)과 같다. 반응 가스는 반응 챔버에 들어가기 전에 막 건조 및 탈수 과정을 통해 운반 가스에 의해 운반됩니다.
(1)R-S＋R-N＋O2 SO2＋NO＋ SO3+CO2＋H2O +MOX (1) R-S＋R-N＋O2 SO2＋NO＋ SO3+CO2＋H2O +MOX
산화질소(NO)는 반응 챔버 내 오존 발생기에서 나오는 오존(O₃)과 반응합니다. 이 과정에서 NO의 일부가 들뜬 상태의 이산화질소(NO2*)로 변환됩니다. NO2*가 여기 상태에서 바닥 상태로 전환되면 광자를 방출합니다. 이러한 광자 신호는 광전자 증배관에 의해 포착 및 증폭된 다음 증폭기 및 컴퓨터 시스템을 통해 처리되어 발광 강도에 비례하는 전기 신호를 생성합니다. 특정 조건에서 반응 중에 생성된 화학발광 강도는 NO 형성 수준과 직접적인 상관관계가 있으며, 이는 결국 샘플의 총 질소 함량에 비례합니다. 따라서 화학발광 강도를 측정하면 총 질소 함량을 정확하게 측정할 수 있습니다. 전체 반응 과정은 방정식 (2)에 설명되어 있습니다.
(2) NO + O3 ————>NO2* + O2————>NO2+hγ
반응실에서는 SO2의 일부가 자외선에 노출되면 들뜬 상태의 이산화황(SO2⁺)으로 변환됩니다. SO2⁺가 바닥 상태로 다시 전환되면 광자를 방출합니다. 이러한 광전자 신호는 광전자 증배관에 의해 포착되고, 증폭기를 통해 증폭되며, 컴퓨터에 의해 처리되어 빛의 강도에 비례하는 전기 신호를 생성합니다. 반응 중에 생성된 형광 강도는 생성된 이산화황의 양과 직접적인 상관관계가 있으며, 이는 결국 샘플의 총 황 함량에 해당합니다. 따라서 형광 강도를 측정하여 총 황 함량을 결정할 수 있습니다. 전체 반응 과정은 식 (3)에 설명되어 있습니다.
(3) SO2 + hγ，————>SO2*————>SO2 + hγ
시료를 분석하기 전에 시료와 유사한 표준시료를 사용하여 표준검량선을 작성합니다. 그런 다음 동일한 조건에서 샘플을 분석하고 표준 검량선에 따라 샘플의 황 및 질소 함량을 자동으로 계산합니다.
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기술적인 매개변수
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주문 번호 |
프로젝트 |
기기 기술 지표 |
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1 |
적용 가능한 방법 |
SH T 0689, ASTM D545, ASTM D4239 등 |
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2 |
분석 샘플 |
원유, 증류유, 석유가스, 석탄, 플라스틱, 나프타 원료 및 전수소화 원료 및 기타 석유화학 제품의 총 황 함량을 결정하는 데 사용됩니다. |
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3 |
측정 가능한 샘플 상태 |
고체, 액체, 기체 |
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4 |
표본 크기 |
고체 : 5mg (시료의 크기에 따라 무게를 잰다) 액체: 5-50ul 가스: 5ml (샘플은 완전히 연소될 수 있어야 합니다) |
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5 |
측정 범위 |
경유: 0.2mg/L~10000mg/L~ 백분율 함량 중유: 1~5000ppm(5000ppm보다 큰 경우 샘플을 희석해야 함) 가스: 1mg/m3~5000mg/m3 |
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6 |
낮은 검출 농도 |
0.1mg/L |
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7 |
제어 범위 및 정밀도: |
0℃~1150℃,±2℃ |
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8 |
반복성 오류 |
0.1mg/L ≤ 검체(또는 표준시료)의 농도가 1.0mg/L 미만, ±0.1mg/L 1.0mg/L ≤ 검체(또는 표준시료)의 농도가 10mg/L 이하인 경우 10% 이하로 한다. 시료(또는 표준시료)의 농도가 >10mg/L인 경우 5% 이하입니다. 시료(또는 표준시료)의 농도가 >10mg/L인 경우 5% 이하입니다.
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9 |
부정적인 압력 |
측정농도의 고농도와 저농도에 따라 DC400V~1200V 설정 가능 |
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10 |
기준선 드리프트 |
5mv/min 이하 |
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11 |
공기 소스 요구 사항 |
산소 순도 99.999%, 출력 압력 ≤0.2MPa 아르곤 순도 99.999%, 출력 압력 ≤0.2MPa |
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12 |
파싱 시간 |
2분-3분 |
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13 |
데이터 통신 인터페이스 |
RS232 |
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14 |
체중,kg |
60 |
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15 |
크기,mm |
형광 황 분석기의 온도 제어: 520 × 490 × 460 |
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성능 특징
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주문 번호 |
프로젝트 |
기기 성능 특성 |
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1 |
석영 열분해 관 |
황화석영 열분해관; 설펜 클로로메탄 블라인드 슬리브 석영 열분해 튜브는 기기의 검출 정확도를 향상시킵니다. |
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2 |
가스압력 안정화 시스템 |
가스 회로에는 가스 압력 변동의 간섭을 피하기 위해 전압 안정화 시스템이 장착되어 있습니다. |
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3 |
온도-제어 시스템 |
분해로 팬의 자동 제어 장치와 냉각 팬의 자동 스위치는 직원이 정지를 기다릴 필요가 없습니다. |
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4 |
시험실 |
황 반응 챔버 장치, 필터, 광전자 증배관 및 자외선 램프는 장비의 안정성과 검출 정확도를 향상시키는 데 사용됩니다. 총 황 함량은 불순물 간섭 능력을 향상시키고 적정 풀에 대한 전해법의 복잡한 작업과 그에 따른 불안정 요인을 피하기 위해 자외선 형광 방법으로 결정되었습니다. |
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5 |
분석 시스템 |
높은 감도, 빠른 분석 속도, 넓은 선형 범위 및 우수한 반복성 |
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6 |
건조 시스템 |
기존의 과염소산마그네슘 탈수 대신 미국산 오리지널 필름 건조기를 사용하여 자주 교체할 필요가 없으며 성능도 안정적입니다. |
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7 |
주요 구성 요소 |
원래 구성 요소를 사용하여 성능이 안정적이고 신뢰할 수 있으며 감지 정확도가 높습니다. |
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샘플링 시스템 |
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1 |
인젝터의 분사 시스템 |
주입 속도는 일정하며 시료에 따라 조정 가능 |
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소프트웨어 시스템 |
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1 |
데이터 처리 |
단일점 보정과 다점 보정을 조합하면 자동으로 보정 곡선이 생성됩니다. 고압을 임의로 조절할 수 있으며 표준 시료 교정은 단일 지점 교정으로 수행할 수 있어 편리하고 빠르며 정확합니다. 농도 및 함량 자동 계산, 매개변수 화면 표시, 측정 피크 모양 및 측정 결과 기능이 있으며 저장하거나 인쇄할 수 있습니다. |
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2 |
데이터 표시 |
매개변수 설정, 교정 및 샘플 감지가 동일한 인터페이스에서 수행됩니다. |
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3 |
서비스 플랫폼 |
Windows 운영 플랫폼은 인간-기계 대화 기능을 가지고 있으며, 분석 과정과 데이터 처리 과정이 컴퓨터에 의해 제어되므로 작업이 편리합니다. 컴퓨터에는 매개변수, 분석 곡선 및 분석 데이터가 표시됩니다. |
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4 |
인쇄된 결과 |
테스트 데이터 및 분석 보고서 인쇄 |
